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國產(chǎn)光刻膠經(jīng)過量產(chǎn)驗證,武漢太紫微企業(yè)T150 A分辨率達(dá)120nm

時間:2025-01-22 11:55:12 作者:147小編 點擊:

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IT之家 10 月 15 日信息,據(jù)武漢東湖新技術(shù)研發(fā)區(qū)管理委員會(中國光谷)今日信息,光谷企業(yè)在半導(dǎo)體專用光刻膠行業(yè)實現(xiàn)重大突破:

武漢太紫微光電科技有限機構(gòu)(以下簡叫作“太紫微機構(gòu)”)推出的 T150 A 光刻膠制品,經(jīng)過半導(dǎo)體工藝量產(chǎn)驗證,實現(xiàn)配方全自主設(shè)計,有望開創(chuàng)國內(nèi)半導(dǎo)體光刻制造新局面。

中國光谷官方介紹叫作:“該制品對標(biāo)國際頭部企業(yè)主流 KrF 光刻膠系列。相較于被業(yè)內(nèi)叫作之為‘妖膠’的國外同系列制品 UV1610,T150 A 在光刻工藝中表現(xiàn)出的極限分辨率達(dá)到 120nm,且工藝寬容度更大,穩(wěn)定性更高,堅膜后烘留膜率優(yōu)秀,其對后道刻蝕工藝表現(xiàn)更為友好,經(jīng)過驗證發(fā)掘 T150 A 中密集圖形經(jīng)過刻蝕,下層介質(zhì)的側(cè)壁垂直度表現(xiàn)優(yōu)異?!?/p>

IT之家查找公開資料獲悉,太紫微機構(gòu)成立于 2024 年 5 月,由華中科技大學(xué)武漢光電國家科研中心團隊創(chuàng)立。

太紫微機構(gòu)企業(yè)負(fù)責(zé)人、英國皇家化學(xué)會會員、華中科技大學(xué)教授朱明強暗示:“以原材料的研發(fā)為起點,最后得到擁有自主知識產(chǎn)權(quán)的配方技術(shù),這只是個起始,咱們團隊還會發(fā)展一系列應(yīng)用于區(qū)別場景下的KrF 與 ArF 光刻膠,為國內(nèi)關(guān)聯(lián)產(chǎn)業(yè)帶來更加多驚喜。”

 

IT之家 10 月 15 日信息,據(jù)武漢東湖新技術(shù)研發(fā)區(qū)管理委員會(中國光谷)今日信息,光谷企業(yè)在半導(dǎo)體專用光刻膠行業(yè)實現(xiàn)重大突破:

武漢太紫微光電科技有限機構(gòu)(以下簡叫作“太紫微機構(gòu)”)推出的 T150 A 光刻膠制品,經(jīng)過半導(dǎo)體工藝量產(chǎn)驗證,實現(xiàn)配方全自主設(shè)計,有望開創(chuàng)國內(nèi)半導(dǎo)體光刻制造新局面。

中國光谷官方介紹叫作:“該制品對標(biāo)國際頭部企業(yè)主流 KrF 光刻膠系列。相較于被業(yè)內(nèi)叫作之為‘妖膠’的國外同系列制品 UV1610,T150 A 在光刻工藝中表現(xiàn)出的極限分辨率達(dá)到 120nm,且工藝寬容度更大,穩(wěn)定性更高,堅膜后烘留膜率優(yōu)秀,其對后道刻蝕工藝表現(xiàn)更為友好,經(jīng)過驗證發(fā)掘 T150 A 中密集圖形經(jīng)過刻蝕,下層介質(zhì)的側(cè)壁垂直度表現(xiàn)優(yōu)異。”

IT之家查找公開資料獲悉,太紫微機構(gòu)成立于 2024 年 5 月,由華中科技大學(xué)武漢光電國家科研中心團隊創(chuàng)立。

太紫微機構(gòu)企業(yè)負(fù)責(zé)人、英國皇家化學(xué)會會員、華中科技大學(xué)教授朱明強暗示:“以原材料的研發(fā)為起點,最后得到擁有自主知識產(chǎn)權(quán)的配方技術(shù),這只是個起始,咱們團隊還會發(fā)展一系列應(yīng)用于區(qū)別場景下的KrF 與 ArF 光刻膠,為國內(nèi)關(guān)聯(lián)產(chǎn)業(yè)帶來更加多驚喜?!?/p>

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